Ruthenium-Präkursor

Neues Verfahren von TANAKA erzeugt ultradünne Ruthenium-Halbleiterschichten von hoher Qualität

Die zweistufige Atomlagenabscheidung nutzt den flüssigen Ruthenium-Präkursor TRuST. Sie erzeugt ultradünne Halbleiterschichten mit geringem Widerstand und hoher Haltbarkeit – für…